高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MGD20-20實現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴散爐擴散工藝控制，對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
高溫恒溫槽用于產(chǎn)品性能分析測試、計量檢定、化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制、普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標(biāo)用途。
高低溫一體恒溫槽MGD40-20為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應(yīng)用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴散爐擴散工藝控制，對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用
高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MDG20-30實現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴散爐擴散工藝控制，對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
MDG40-54-高低溫恒溫槽（-40℃～180℃）實現(xiàn)高溫195℃，低溫-40℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴散爐擴散工藝控制，對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
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